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    1. 產品列表PRODUCTS LIST

      • 1400℃真空管式氣氛爐

        1400℃真空管式氣氛爐

        1400℃真空管式氣氛爐以硅碳棒為加熱元件,采用雙層殼體結構,爐殼間配有風冷系統,能快速升降溫,采用高純剛玉管、兩端用不銹鋼法蘭密封,可選用浮子流量計控制進氣流量、該爐具有溫場均衡、表面溫度低、升降溫度速率快、節能等優點。

        更新時間:2021-11-18     型號:     廠商性質:生產廠家     瀏覽量:1055

      • 等離子增強化學氣相沉積爐(PECVD系統)

        等離子增強化學氣相沉積爐(PECVD系統)

        等離子增強化學氣相沉積爐(PECVD系統)是借助于放電等離子體使含有薄膜組成的氣態物質發生化學反應,從而實現薄膜材料生長的一種新的制備技術。由于PECVD技術是通過應氣體放電來制備薄膜的,有效地利用了非平衡等離子體的反應特征,從根本上改變了反應體系的能量供給方式。

        更新時間:2021-11-18     型號:     廠商性質:生產廠家     瀏覽量:1086

      • 1200℃真空管式氣氛爐

        1200℃真空管式氣氛爐

        1200℃真空管式氣氛爐采用先進技術研制開發的高性能高節能的新型電爐,有單管、雙管、臥式、可開啟式、立式、單溫區、雙溫區、三溫區等多種管式爐型。主要應用于大專院校、科研院所、工礦企業等實驗和小批量生產之用。具有安全可靠、操作簡單、控溫精度高、保溫效果好、溫度范圍大、爐膛溫度均勻性高、溫區多、可選配氣氛、抽真空爐型等。

        更新時間:2021-11-18     型號:HTF1200     廠商性質:生產廠家     瀏覽量:944

      • 化學氣相沉積爐(CVD系統)

        化學氣相沉積爐(CVD系統)

        化學氣相沉積爐(CVD系統)是借助于輝光放電等離子體使含有薄膜組成的氣態物質發生化學反應,從而實現薄膜材料生長的一種新的制備技術。由于PECVD技術是通過應氣體放電來制備薄膜的,有效地利用了非平衡等離子體的反應特征,從根本上改變了反應體系的能量供給方式。

        更新時間:2021-11-18     型號:     廠商性質:生產廠家     瀏覽量:970

      • 1700℃真空管式氣氛爐

        1700℃真空管式氣氛爐

        1700℃真空管式氣氛爐采用先進技術研制開發的高性能高節能的新型電爐,有單管、雙管、臥式、可開啟式、立式、單溫區、雙溫區、三溫區等多種管式爐型。設備具有安全可靠、操作簡單、控溫精度高、保溫效果好、溫度范圍大、爐膛溫度均勻性高、溫區多、可選配氣氛、抽真空爐型等。

        更新時間:2021-11-18     型號:HTF1700     廠商性質:生產廠家     瀏覽量:593

      • 1700℃管式氣氛爐

        1700℃管式氣氛爐

        1700℃管式氣氛爐以硅碳棒為發熱元件;雙層風冷結構;高純氧化鋁纖維真空吸附一次成型;高密度硅碳棒真空擠壓成型;剛玉管外徑為60、80mm。兩個溫區分別由兩個獨立的溫控系統來控制且都為PID30段程序化控溫。

        更新時間:2021-11-18     型號:HTL     廠商性質:生產廠家     瀏覽量:744

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